Fundamental Electron Interactions with Plasma Processing Gases

این جلد به دانش اولیه و درک برهمکنش های اساسی الکترون های کم انرژی با مولکول ها می پردازد. این یک گزارش به روز و جامع از عوامل بنیادی در برهمکنش الکترون های کم انرژی با مولکول های مورد علاقه فعلی در فناوری مدرن، به ویژه صنعت نیمه هادی، ارائه می دهد. فرآیندهای برهمکنش الکترون-مولکول اولیه الاستیک و در پراکندگی الکترون الاستیک، یونیزاسیون برخورد الکترون، تفکیک الکترون-برخورد، و اتصال الکترون مورد بحث قرار گرفته است، و داده‌های معتبر پیشرفته در مورد مقاطع این فرآیندها و همچنین نرخ و ضرایب حمل و نقل ارائه شده است. این دانش بنیادی توسط ما در طول هشت سال گذشته از طریق بررسی انتقادی و ارزیابی جامع "همه" داده‌های موجود در مورد برخورد الکترون‌های کم انرژی با گازهای پردازش پلاسما که در موسسه ملی استاندارد و فناوری انجام دادیم، به دست آمده است. NIST). داده‌های این کار ابتدا در مجله داده‌های مرجع فیزیکی و شیمیایی منتشر شد و در اینجا به‌روزرسانی و گسترش یافته است. فرآیندهای برهمکنش بنیادی الکترون-مولکول در فصل 1 مورد بحث قرار می گیرد. مقاطع مقطعی و ضرایب سرعت که اغلب برای توصیف این برهمکنش ها استفاده می شود، در فصل 2 تعریف شده است، جایی که برخی از پیشرفت های اخیر در روش های به کار گرفته شده برای اندازه گیری یا محاسبه آنها بیان شده است. روشی که ما برای ارزیابی بحرانی، سنتز و ارزیابی داده‌های موجود اتخاذ کردیم در فصل 3 توضیح داده شده است. ، 5 و 6.

This volume deals with the basic knowledge and understanding of fundamental interactions of low energy electrons with molecules. It pro­ vides an up-to-date and comprehensive account of the fundamental in­ teractions of low-energy electrons with molecules of current interest in modern technology, especially the semiconductor industry. The primary electron-molecule interaction processes of elastic and in­ elastic electron scattering, electron-impact ionization, electron-impact dissociation, and electron attachment are discussed, and state-of-the­ art authoritative data on the cross sections of these processes as well as on rate and transport coefficients are provided. This fundamental knowledge has been obtained by us over the last eight years through a critical review and comprehensive assessment of "all" available data on low-energy electron collisions with plasma processing gases which we conducted at the National Institute of Standards and Technology (NIST). Data from this work were originally published in the Journal of Physical and Chemical Reference Data, and have been updated and expanded here. The fundamental electron-molecule interaction processes are discussed in Chapter 1. The cross sections and rate coefficients most often used to describe these interactions are defined in Chapter 2, where some recent advances in the methods employed for their measurement or calculation are outlined. The methodology we adopted for the critical evaluation, synthesis, and assessment of the existing data is described in Chapter 3. The critically assessed data and recommended or suggested cross sections and rate and transport coefficients for ten plasma etching gases are presented and discussed in Chapters 4, 5, and 6.