دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش:
نویسندگان: ROGER NEWMAN (Eds.)
سری: Materials Processing: Theory and Practices 1
ISBN (شابک) : 9780444853516, 0444853510
ناشر: Elsevier Science Ltd
سال نشر: 1980
تعداد صفحات: 485
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 40 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Fine Line Lithography به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب لیتوگرافی خط ظریف نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
Content:
Front Matter
Page iii
Copyright page
Page iv
Introduction to the Series
Page v
Franklin F.Y. WANG
Preface to Volume 1
Pages vi-vii
Roger NEWMAN
Advisory Board
Page viii
CHAPTER 1 - Fundamentals of Electron and X-Ray Lithography
Pages 1-104
N.D. WITTELS
CHAPTER 2 - Optical Methods for Fine Line Lithography
Pages 105-232
B.J. LIN
CHAPTER 3 - Electron Beam Projection Techniques
Pages 233-335
H. KOOPS
CHAPTER 4 - Dry Processing Methods
Pages 337-415
R.L. MADDOX, M.R. SPLINTER
CHAPTER 5 - Application of Electron Beam Technology to Large Scale Integrated Circuits
Pages 417-478
E.V. WEBER
Subject Index
Pages 479-481