مشخصات کتاب

Ferroelectric Dielectrics Integrated on Silicon

ویرایش: 1 
نویسندگان: Emmanuel Defaÿ  
سری: ISTE 
ISBN (شابک) : 1848213131, 9781848213135 
ناشر: Wiley-ISTE 
سال نشر: 2011 
تعداد صفحات: 457 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 29 مگابایت 

در صورت تبدیل فایل کتاب Ferroelectric Dielectrics Integrated on Silicon به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب دی الکتریک دی الکتریک مجتمع شده روی سیلیکون نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.

توضیحاتی در مورد کتاب دی الکتریک دی الکتریک مجتمع شده روی سیلیکون

این کتاب فناوری به‌روزی را که برای مواد با K بالا برای کاربردهای بیش از مور به کار می‌رود، یعنی میکروسیستم‌های بکار رفته در فناوری‌های هسته میکروالکترونیک توصیف می‌کند.
پس از جزئیات نظریه پایه ترمودینامیکی اعمال شده بر روی لایه‌های نازک دی الکتریک با پتاسیم بالا از جمله اثرات بیرونی، این کتاب بر ویژگی لایه های نازک تأکید دارد. سپس فناوری‌های رسوب‌گذاری و الگوسازی ارائه می‌شوند. یک فصل کامل به نقش عمده ای که در این زمینه توسط مشخصه یابی پراش پرتو ایکس ایفا می شود، اختصاص داده شده است، و سایر تکنیک های مشخصه نیز مانند مشخصه یابی فرکانس رادیویی توضیح داده شده است. یک مطالعه عمیق از تأثیر جریان‌های نشتی همراه با بحث قابلیت اطمینان انجام می‌شود. سه فصل کاربردی خازن های یکپارچه، خازن های متغیر و حافظه های فروالکتریک را پوشش می دهد. فصل آخر به یک زمینه تحقیقاتی جدید، یعنی لایه‌های نازک چند فرویی می‌پردازد.

توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

This book describes up-to-date technology applied to high-K materials for More Than Moore applications, i.e. microsystems applied to microelectronics core technologies.
After detailing the basic thermodynamic theory applied to high-K dielectrics thin films including extrinsic effects, this book emphasizes the specificity of thin films. Deposition and patterning technologies are then presented. A whole chapter is dedicated to the major role played in the field by X-Ray Diffraction characterization, and other characterization techniques are also described such as Radio frequency characterization. An in-depth study of the influence of leakage currents is performed together with reliability discussion. Three applicative chapters cover integrated capacitors, variables capacitors and ferroelectric memories. The final chapter deals with a reasonably new research field, multiferroic thin films.

نظرات کاربران

کتاب های تصادفی

دانلود کتاب Essentials of WAIS-IV Assessment

دانلود کتاب Back to Black: retelling Black radicalism for the 21st century

دانلود کتاب Society and Culture in Early Modern France: Eight Essays

دانلود کتاب I Live in the Future and Heres How It Works

دانلود کتاب Устоз ижодкор: Мақсуд Шайхзода таваллудининг 100 йиллиги муносабати билан