دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: 1st ed.
نویسندگان: Takashi Matsuoka. Yoshihiro Kangawa
سری: Springer Series in Materials Science 269
ISBN (شابک) : 9783319766409, 9783319766416
ناشر: Springer International Publishing
سال نشر: 2018
تعداد صفحات: 228
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 10 مگابایت
کلمات کلیدی مربوط به کتاب رشد epitaxial از ترکیبات III-Nitride: علم مواد، مواد نوری و الکترونیک، نیمه هادی ها، فیزیک عددی و محاسباتی، شبیه سازی، سطوح و رابط ها، لایه های نازک، کریستالوگرافی و روش های پراکندگی
در صورت تبدیل فایل کتاب Epitaxial Growth of III-Nitride Compounds به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب رشد epitaxial از ترکیبات III-Nitride نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
این کتاب اطلاعات گستردهای را در مورد مکانیسمهای رشد همپایه در ترکیبات III-نیترید ارائه میکند، با استفاده از یک رویکرد محاسباتی پیشرفته که محاسبات اولیه، پتانسیلهای بین اتمی تجربی، و شبیهسازیهای مونت کارلو را ترکیب میکند. انجام دهید. این مقاله جنبههای نظری مهم ساختارهای سطحی و فرآیندهای رشد عنصری را در طول رشد همپایی ترکیبات III-نیترید مورد بحث قرار میدهد. علاوه بر این، خواص ساختاری و الکترونیکی پیشرفته، ساختارهای سطحی، فرآیندهای رشد اساسی و رفتار جدید لایههای نازک در نیمههادیهای نیترید III را مورد بحث قرار میدهد. به این ترتیب، برای همه محققان، مهندسان و دانشجویان فارغ التحصیل که به دنبال اطلاعات دقیق در مورد رشد کریستال و کاربرد آن در ترکیبات III-نیترید هستند، جذاب خواهد بود.
This book presents extensive information on the mechanisms of epitaxial growth in III-nitride compounds, drawing on a state-of-the-art computational approach that combines ab initio calculations, empirical interatomic potentials, and Monte Carlo simulations to do so. It discusses important theoretical aspects of surface structures and elemental growth processes during the epitaxial growth of III-nitride compounds. In addition, it discusses advanced fundamental structural and electronic properties, surface structures, fundamental growth processes and novel behavior of thin films in III-nitride semiconductors. As such, it will appeal to all researchers, engineers and graduate students seeking detailed information on crystal growth and its application to III-nitride compounds.
Front Matter ....Pages i-ix
Introduction (Tomonori Ito)....Pages 1-5
Front Matter ....Pages 7-7
Computational Methods (Tomonori Ito, Toru Akiyama)....Pages 9-34
Fundamental Properties of III-Nitride Compounds (Toru Akiyama)....Pages 35-53
Fundamental Properties of III-Nitride Surfaces (Toru Akiyama)....Pages 55-92
Front Matter ....Pages 93-93
Thermodynamic Approach to InN Epitaxy (Yoshihiro Kangawa)....Pages 95-108
Atomic Arrangement and In Composition in InGaN Quantum Wells (Yoshihiro Kangawa)....Pages 109-124
Initial Epitaxial Growth Processes of III-Nitride Compounds (Toru Akiyama)....Pages 125-144
Polarity Inversion and Electron Carrier Generation in III-Nitride Compounds (Takashi Nakayama)....Pages 145-170
Defects in Indium-Related Nitride Compounds and Structural Design of AlN/GaN Superlattices (Kenji Shiraishi)....Pages 171-183
Novel Behaviors Related to III-Nitride Thin Film Growth (Toru Akiyama)....Pages 185-218
Back Matter ....Pages 219-223