دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
دسته بندی: فیزیک پلاسما ویرایش: نویسندگان: Emile Knystautas سری: Optical engineering 92 ISBN (شابک) : 082472447X, 9781420028294 ناشر: CRC Press سال نشر: 2005 تعداد صفحات: 561 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 30 مگابایت
کلمات کلیدی مربوط به کتاب مهندسی فیلم های نازک و نانوساختارها با پرتوهای یون: فیزیک، فیزیک پلاسما
در صورت تبدیل فایل کتاب Engineering Thin Films and Nanostructures with Ion Beams به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب مهندسی فیلم های نازک و نانوساختارها با پرتوهای یون نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
تکنیکهای پرتو یونی برای چندین دهه برای تولید لایه نازک برای صنعت نیمهرساناها مورد استفاده قرار گرفتهاند، اما به دلیل ملاحظات هزینه، آنها به طور گسترده برای کاربردهای دیگر مانند عملیات سطح فلز مورد استفاده قرار نگرفتهاند. دستگاههای تولیدی جدید و کوچکتر که اکنون در دسترس هستند، استفاده از پرتو یونی را برای کاربردهای صنعتی حتی بیشتر ممکن کردهاند، که بسیاری از آنها نیاز به خیاطی سفارشی مواد دارند. Knystautas (نانوتکنولوژی، CIVEN، ونیز، ایتالیا) و بیش از 20 مشارکتکننده دیگر مقالاتی را ارائه میکنند که هم کار قبلی انجام شده در مورد اصلاح پرتو یونی مواد را بررسی میکنند و هم شامل کارهای جدید در مورد کاربردهای نوآورانه است. فصلها به اثرات پرتو یونی در لایههای نازک مغناطیسی، اثرات نوری کاشت یون، لایههای نیترید فلزات واسطه نانوساختار، و کاربردهای پزشکی قانونی اختلاط پرتو یون و طیفسنجی سطحی اثر انگشت نهفته میپردازند. این کتاب شامل واژه نامه و CD-ROM با کلیپ های ویدئویی از میکروسکوپ الکترونی است.
Ion-beam techniques have been used to produce thin film for the semiconductor industry for decades, but because of cost considerations, they have not been widely used for other applications such as metal surface treatment. New and smaller manufacturing devices now available have made it possible to use the ion-beam for even more industrial applications, many of which require custom tailoring of materials. Knystautas (nanotechnology, CIVEN, Venice, Italy) and over 20 other contributors present papers that both review previous work done on ion-beam modification of materials, and include new work on innovative applications. Chapters address ion-beam effects in magnetic thin films, optical effects of ion implantation, nanostructured transition- metals nitride layers, and forensic applications of ion-beam mixing & surface spectroscopy of latent fingerprints. The book includes a glossary and CD-ROM with video clips from an electron microscope.