دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Developments in Surface Contamination and Cleaning - Fundamentals and Applied Aspects
دانلود کتاب تحولات در آلودگی و تمیز کردن سطح - مبانی و جنبه های کاربردی
مشخصات کتاب
Developments in Surface Contamination and Cleaning - Fundamentals and Applied Aspects
ویرایش: نویسندگان: Kohli. Rajiv, Mittal. K.L.(eds.) سری: ISBN (شابک) : 9780815516859, 9780815515555 ناشر: William Andrew Publishing سال نشر: 2008 تعداد صفحات: 1215 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 15 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 42,000
در صورت تبدیل فایل کتاب Developments in Surface Contamination and Cleaning - Fundamentals and Applied Aspects به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب تحولات در آلودگی و تمیز کردن سطح - مبانی و جنبه های کاربردی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب تحولات در آلودگی و تمیز کردن سطح - مبانی و جنبه های کاربردی
آلودگی سطحی در بسیاری از فناوری‌ها و صنایع، از میکروالکترونیک گرفته تا اپتیک، خودرو و بیوپزشکی، از اهمیت اساسی برخوردار است. بنابراین، نیاز به درک علل آلودگی سطحی و حذف آنها بسیار محرز است. به طور کلی، دو دسته کلی از آلاینده های سطحی وجود دارد: نوع فیلم و ذرات. در دنیای کوچک شدن ابعاد، مانند اندازه روزافزون دستگاه‌های میکروالکترونیک، نیاز به درک رفتار ذرات نانومقیاس و ابداع راه‌هایی برای حذف آنها تا سطح قابل قبولی وجود دارد. ذراتی که چند سال پیش از نظر عملکردی بی ضرر بودند، امروزه «نقص کشنده» هستند و پیامدهای جدی برای عملکرد و قابلیت اطمینان اجزا دارند. این کتاب با ارجاع و مصور فراوان به منابع، تشخیص، شناسایی و حذف هر دو نوع آلاینده و همچنین راه‌هایی برای جلوگیری از آلوده شدن سطوح می‌پردازد. تعدادی از تکنیک های نظارت بر سطح پاکیزگی نیز مورد بحث قرار گرفته است و تاکید ویژه ای بر رفتار ذرات در مقیاس نانو در سراسر کتاب شده است.
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
Surface contamination is of cardinal importance in a host of technologies and industries, ranging from microelectronics to optics to automotive to biomedical. Thus, the need to understand the causes of surface contamination and their removal is very patent. Generally speaking, there are two broad categories of surface contaminants: film-type and particulates. In the world of shrinking dimensions, such as the ever-decreasing size of microelectronic devices, there is an intensified need to understand the behavior of nanoscale particles and to devise ways to remove them to an acceptable level. Particles which were functionally innocuous a few years ago are "killer defects" today, with serious implications for yield and reliability of the components. This amply referenced and illustrated book addresses the sources, detection, characterization and removal of both kinds of contaminants, as well as ways to prevent surfaces from being contaminated. A number of techniques to monitor the level of cleanliness are also discussed and a special emphasis is placed on the behavior of nanoscale particles throughout the book.
فهرست مطالب
Content:
Front Matter
• Table of Contents
•Part I. Fundamentals 1. The Physical Nature of Very, Very Small Particles and its Impact on Their Behavior
2. Elucidating the Fundamental Interactions of Very Small Particles: Ultrafast Science
3. Transport and Deposition of Aerosol Particles
4. Relevance of Particle Transport in Surface Deposition and Cleaning
5. Tribological Implication of Particles
6. Airborne Molecular Contamination: Contamination on Substrates and the Environment in Semiconductors and other Industries
7. Aspects of Particle Adhesion and Removal
8. Relevance of Electrostatic Discharge Controls to Particle Contamination in Cleanroom Environments
•Part II. Characterization of Surface Contaminants 9. Electron Microscopy Techniques for Imaging and Analysis of Nanoparticles
10. Surface Analysis Methods for Contaminant Identification
11. Ionic Contamination and Analytical Techniques for Ionic Contaminants
12. Relevance of Colorimetric Interferometry for Thin Surface Film Contaminants
13. Wettability Techniques to Monitor the Cleanliness of Surfaces
•Part III. Methods for Removal of Surface Contamination 14. The Use of Surfactants to Enhance Particle Removal from Surfaces
15. Cleaning with Solvents
16. Removal of Particles by Chemical Cleaning
17. Cleaning Using a High-Speed Impinging Jet
18. Microabrasive Precision Cleaning and Processing Technology
19. Cleaning Using Argon/Nitrogen Cryogenic Aerosols
20. Carbon Dioxide Snow Cleaning
21. Coatings for Prevention or Deactivation of Biological Contamination
22. A Detailed Study of Semiconductor Wafer Drying
Index
نظرات کاربران
کتاب های تصادفی
