دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Computational Lithography
دانلود کتاب لیتوگرافی محاسباتی
مشخصات کتاب
Computational Lithography
ویرایش: 1
نویسندگان: Xu Ma. Gonzalo R. Arce
سری: Wiley Series in Pure and Applied Optics
ISBN (شابک) : 047059697X, 9780470596975
ناشر: Wiley
سال نشر: 2010
تعداد صفحات: 244
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 4 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 36,000
در صورت تبدیل فایل کتاب Computational Lithography به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب لیتوگرافی محاسباتی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب لیتوگرافی محاسباتی
خلاصه یکپارچه مدل‌ها و روش‌های بهینه‌سازی مورد استفاده در
لیتوگرافی محاسباتی
لیتوگرافی نوری یکی از چالش‌برانگیزترین حوزه‌های فناوری ساخت مدار مجتمع فعلی است. صنعت نیمه هادی بیشتر بر تکنیک های افزایش وضوح (RETs) تکیه می کند، زیرا اجرای آنها به تغییرات قابل توجهی در زیرساخت ساخت نیاز ندارد. لیتوگرافی محاسباتی اولین کتابی است که به بهینه سازی محاسباتی RET ها در لیتوگرافی نوری می پردازد و بحث عمیقی در مورد تصحیح مجاورت نوری بهینه (OPC)، ماسک تغییر فاز (PSM) و خارج از محور ارائه می دهد. ابزارهای RET روشنایی (OAI) که از رویکردهای بهینه‌سازی ریاضی مبتنی بر مدل استفاده می‌کنند.
این کتاب با مقدمه‌ای بر سیستم‌های لیتوگرافی نوری، اصول میدان مغناطیسی الکتریکی و اصول بهینه‌سازی از دیدگاه ریاضی آغاز می‌شود. در ادامه به تشریح جزئیات انواع مختلف الگوریتم‌های بهینه‌سازی برای پیاده‌سازی RET می‌پردازد. بیشتر الگوریتم‌های توسعه‌یافته مبتنی بر کاربرد رویکردهای OPC، PSM، و OAI و ترکیب‌های آنها هستند. الگوریتم‌هایی برای روشنایی منسجم و همچنین سیستم‌های روشنایی تا حدی منسجم شرح داده شده‌اند و شبیه‌سازی‌های متعددی برای نشان دادن اثربخشی الگوریتم‌ها ارائه شده‌اند. علاوه بر این، مشتقات ریاضی همه چارچوب‌های بهینه‌سازی ارائه شده است.
فایل‌های نرم‌افزار MATLAB® برای تمام روش‌های RET شرح‌داده‌شده در کتاب، اجرای و بررسی کدها را برای خوانندگان به منظور درک و اعمال الگوریتم‌های بهینه‌سازی آسان می‌کند. و همچنین طراحی مجموعه ای از ماسک های لیتوگرافی بهینه. این کدها همچنین ممکن است توسط خوانندگان برای فعالیت های تحقیق و توسعه در سازمان های دانشگاهی یا صنعتی خود استفاده شود. راهنمای نرم افزار MATLAB® نیز همراه است. راهنمای نرم‌افزار MATLAB® همراه آن گنجانده شده است، و خوانندگان می‌توانند نرم‌افزار را برای استفاده همراه با راهنما در ftp://ftp.wiley.com/public/sci_tech_med/computational_lithography دانلود کنند.
برای خوانندگان سطح ابتدایی و با تجربه طراحی شده است. لیتوگرافی محاسباتی برای اساتید، دانشجویان فارغ التحصیل و محققان و همچنین دانشمندان و مهندسان در سازمان های صنعتی که زمینه تحقیقاتی یا شغلی آنها ساخت آی سی نیمه هادی، لیتوگرافی نوری و RET است، در نظر گرفته شده است. لیتوگرافی محاسباتی از نظریه غنی مسائل معکوس، اپتیک، بهینه سازی و تصویربرداری محاسباتی نشأت می گیرد. به این ترتیب، این کتاب همچنین برای محققان و دست اندرکاران این حوزه ها ارسال شده است
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
A Unified Summary of the Models and Optimization Methods
Used in Computational Lithography
Optical lithography is one of the most challenging areas of current integrated circuit manufacturing technology. The semiconductor industry is relying more on resolution enhancement techniques (RETs), since their implementation does not require significant changes in fabrication infrastructure. Computational Lithography is the first book to address the computational optimization of RETs in optical lithography, providing an in-depth discussion of optimal optical proximity correction (OPC), phase shifting mask (PSM), and off-axis illumination (OAI) RET tools that use model-based mathematical optimization approaches.
The book starts with an introduction to optical lithography systems, electric magnetic field principles, and the fundamentals of optimization from a mathematical point of view. It goes on to describe in detail different types of optimization algorithms to implement RETs. Most of the algorithms developed are based on the application of the OPC, PSM, and OAI approaches and their combinations. Algorithms for coherent illumination as well as partially coherent illumination systems are described, and numerous simulations are offered to illustrate the effectiveness of the algorithms. In addition, mathematical derivations of all optimization frameworks are presented.
The accompanying MATLAB® software files for all the RET methods described in the book make it easy for readers to run and investigate the codes in order to understand and apply the optimization algorithms, as well as to design a set of optimal lithography masks. The codes may also be used by readers for their research and development activities in their academic or industrial organizations. An accompanying MATLAB® software guide is also included. An accompanying MATLAB® software guide is included, and readers can download the software to use with the guide at ftp://ftp.wiley.com/public/sci_tech_med/computational_lithography.
Tailored for both entry-level and experienced readers, Computational Lithography is meant for faculty, graduate students, and researchers, as well as scientists and engineers in industrial organizations whose research or career field is semiconductor IC fabrication, optical lithography, and RETs. Computational lithography draws from the rich theory of inverse problems, optics, optimization, and computational imaging; as such, the book is also directed to researchers and practitioners in these fields
فهرست مطالب
Cover Page......Page 1
Title: Computational Lithography......Page 4
ISBN 9780470596975......Page 5
3 Rule-Based Resolution Enhancement Techniques......Page 7
7 Computational Lithography with Partially Coherent Illumination......Page 8
10 Coherent Thick-Mask Optimization......Page 9
Index......Page 10
Preface......Page 11
Acknowledgments......Page 13
Acronyms......Page 14
1.1 OPTICAL LITHOGRAPHY......Page 15
1.1.1 Optical Lithography and Integrated Circuits......Page 16
1.1.2 Brief History of Optical Lithography Systems......Page 17
1.2 RAYLEIGH’S RESOLUTION......Page 19
1.3 RESIST PROCESSES AND CHARACTERISTICS......Page 21
1.4 TECHNIQUES IN COMPUTATIONAL LITHOGRAPHY......Page 24
1.4.2 Phase-Shifting Masks......Page 25
1.4.3 Off-Axis Illumination......Page 28
1.4.4 Second-Generation RETs......Page 29
1.5 OUTLINE......Page 30
2.1.1 Abbe’s Model......Page 33
2.1.2 Hopkins Diffraction Model......Page 36
2.1.3 Coherent and Incoherent Imaging Systems......Page 38
2.2.1 Fourier Series Expansion Model......Page 39
2.2.2 Singular Value Decomposition Model......Page 43
2.2.3 Average Coherent Approximation Model......Page 46
2.2.4 Discussion and Comparison......Page 48
2.3 SUMMARY......Page 50
3.1.1 Rule-Based RETs......Page 51
3.1.2 Model-Based RETs......Page 52
3.2 RULE-BASED OPC......Page 53
3.2.2.1 Line Biasing......Page 54
3.2.3 Line-Shortening Reduction OPC......Page 56
3.2.4 Two-Dimensional OPC......Page 57
3.3.1 Dark-Field Application......Page 58
3.3.2 Light-Field Application......Page 59
3.4 RULE-BASED OAI......Page 60
3.5 SUMMARY......Page 61
4.1.1 Definition in the Optimization Problem......Page 62
4.1.2 Classification of Optimization Problems......Page 63
Theorem 4.1 (First-order necessary condition).......Page 64
Definition 4.6 (Convex function).\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0......Page 65
Theorem 4.5 (Taylor’s theorem).......Page 66
4.2.2.1 Line Search Strategy......Page 68
4.2.2.2 Trust Region Strategy......Page 70
4.3 SUMMARY......Page 71
5 Computational Lithography with Coherent Illumination......Page 72
5.1 PROBLEM FORMULATION......Page 73
5.2.1 OPC Design Algorithm......Page 76
5.2.2 Simulations......Page 78
5.3.1 Two-Phase PSM Design Algorithm......Page 79
5.3.2 Simulations......Page 82
5.4.1 Generalized PSM Design Algorithm......Page 86
5.4.2 Simulations......Page 89
5.5 RESIST MODELING EFFECTS......Page 93
5.6 SUMMARY......Page 96
6 Regularization Framework......Page 97
6.1.1 Discretization Penalty for OPC Optimization......Page 98
6.1.2 Discretization Penalty for Two-Phase PSM Optimization......Page 100
6.1.3 Discretization Penalty for Generalized PSM Optimization......Page 101
6.2.1 Total Variation Penalty......Page 107
6.2.2 Global Wavelet Penalty......Page 108
6.2.3 Localized Wavelet Penalty......Page 112
6.3 SUMMARY......Page 114
7 Computational Lithography with Partially Coherent Illumination......Page 115
7.1.1 OPC Design Algorithm Using the Fourier Series Expansion Model......Page 116
7.1.2 Simulations Using the Fourier Series Expansion Model......Page 119
7.1.3 OPC Design Algorithm Using the Average Coherent Approximation Model......Page 121
7.1.5 Discussion and Comparison......Page 125
7.2 PSM OPTIMIZATION......Page 129
7.2.1 PSM Design Algorithm Using the Singular Value Decomposition Model......Page 130
7.2.3 Simulations......Page 132
7.3 SUMMARY......Page 136
8.1 DOUBLE-PATTERNING METHOD......Page 137
8.2 POST-PROCESSING BASED ON 2D DCT......Page 142
8.3 PHOTORESIST TONE REVERSING METHOD......Page 145
8.4 SUMMARY......Page 149
9 Source and Mask Optimization......Page 150
9.1 LITHOGRAPHY PRELIMINARIES......Page 151
Definition 9.4 (Singular pixels).\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0......Page 154
9.4 SIMULATIONS......Page 155
9.5 SUMMARY......Page 159
10 Coherent Thick-Mask Optimization......Page 160
10.2.1 Boundary Layer Model in Coherent Imaging Systems......Page 161
10.2.2 Boundary Layer Model in Partially Coherent Imaging Systems......Page 165
10.3 LITHOGRAPHY PRELIMINARIES......Page 167
10.4.1 Topological Constraint......Page 171
10.4.2 OPC Optimization Algorithm Based on BL Model Under Coherent Illumination......Page 172
10.4.3 Simulations......Page 173
10.5.1 Topological Constraint......Page 176
Definition 10.10 (Type III singular pixel).\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0\0......Page 178
10.5.3 Simulations......Page 179
10.6 SUMMARY......Page 184
11.1 CONCLUSION......Page 185
11.2.2 Initialization Approach for the Inverse Lithography Optimization......Page 187
11.2.6 Investigation of Factors Influencing the Complexity of the OPC and PSM Optimization Algorithms......Page 188
Appendix A Formula Derivation in Chapter 5......Page 189
Appendix B Manhattan Geometry......Page 195
Appendix C Formula Derivation in Chapter 6......Page 196
Appendix D Formula Derivation in Chapter 7......Page 199
Appendix E Formula Derivation in Chapter 8......Page 203
Appendix F Formula Derivation in Chapter 9......Page 208
Appendix G Formula Derivation in Chapter 10......Page 209
Appendix H Software Guide......Page 213
References......Page 231
Index......Page 237
Back Page......Page 241
