برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید

09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Chemistry and Lithography (Press Monograph)

دانلود کتاب شیمی و سنگ نگاری (چاپ مونوگرافی)

مشخصات کتاب

Chemistry and Lithography (Press Monograph)

دسته بندی: ابزار
ویرایش: 1 
نویسندگان: Uzodinma Okoroanyanwu  
سری: SPIE Press Monograph', PM192 
ISBN (شابک) : 1118030028, 9781118030028 
ناشر: SPIE Press 
سال نشر: 2011 
تعداد صفحات: 878 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 23 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 29,000

کلمات کلیدی مربوط به کتاب شیمی و سنگ نگاری (چاپ مونوگرافی): ابزار دقیق، نیمه هادی ها

میانگین امتیاز به این کتاب :
تعداد امتیاز دهندگان : 19

در صورت تبدیل فایل کتاب Chemistry and Lithography (Press Monograph) به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب شیمی و سنگ نگاری (چاپ مونوگرافی) نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.

توضیحاتی در مورد کتاب شیمی و سنگ نگاری (چاپ مونوگرافی)

شیمی و لیتوگرافی درمان جامعی از پدیده های شیمیایی در لیتوگرافی ارائه می دهد به نحوی که برای خوانندگان گسترده قابل دسترسی باشد. این کتاب موضوعاتی را درباره فیزیک ذرات نوری و باردار که در لیتوگرافی تمرین می‌شود، با دیدگاهی گسترده‌تر از اینکه چگونه پیوند بین شیمی و اپتیک انقلاب چاپی و الکترونیکی عصر دیجیتال را ممکن ساخته است، ارائه می‌کند. جنبه های مرتبط لیتوگرافی به صورت موضوعی ارائه شده است تا دیدگاهی واحد از تحولات این رشته در طول زمان، از اولین تأملات ثبت شده در مورد ماهیت ماده تا آخرین تحولات در مرزهای علم و فناوری لیتوگرافی ارائه شود. بخش اول چندین مورد را ارائه می دهد. اصول شیمیایی و فیزیکی مهمی که در اختراع و تکامل لیتوگرافی نقش دارند. بخش دوم فرآیندهای سنتز، ساخت، استفاده و جابجایی مواد و مواد شیمیایی لیتوگرافی را پوشش می‌دهد. بخش سوم به بررسی چندین اصل شیمیایی و فیزیکی مهم در عمل لیتوگرافی می پردازد. شیمی و لیتوگرافی یک مرجع مفید برای هر کسی است که در صنعت نیمه هادی کار می کند.

توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Chemistry and Lithography provides a comprehensive treatment of the chemical phenomena in lithography in a manner that is accessible to a wide readership. The book presents topics on the optical and charged particle physics practiced in lithography, with a broader view of how the marriage between chemistry and optics has made possible the print and electronic revolutions of the digital age. The related aspects of lithography are thematically presented to convey a unified view of the developments in the field over time, from the very first recorded reflections on the nature of matter to the latest developments at the frontiers of lithography science and technology.Part I presents several important chemical and physical principles involved in the invention and evolution of lithography. Part II covers the processes for the synthesis, manufacture, usage, and handling of lithographic chemicals and materials. Part III investigates several important chemical and physical principles involved in the practice of lithography. Chemistry and Lithography is a useful reference for anyone working in the semiconductor industry.

فهرست مطالب

Contents......Page 8
Preface......Page 22
Acronyms and Abbreviations......Page 26
Introduction to Lithography......Page 31
Invention of Lithography and Photolithography......Page 37
Optical and Chemical Origins of Lithography......Page 57
Evolution of Lithography......Page 164
Lithographic Chemicals......Page 205
Negative Resists......Page 219
Positive Resists......Page 308
General Considerations on the Radiation and Photochemistry of Resists......Page 418
Antire.ection Coatings and Re.ectivity Control......Page 442
Stone, Plate, and Offset Lithography......Page 472
The Semiconductor Lithographic Process......Page 483
Lithographic Modeling......Page 570
Optical Lithography......Page 623
X-Ray and Extreme Ultraviolet Lithographies......Page 720
Charged Particle Lithography......Page 757
Lithography in Integrated Circuit Device Fabrication......Page 783
Advanced Resist Processing and Resist Resolution Limit Issues......Page 807
Afterword......Page 851