دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Chemical Vapour Deposition: Growth Processes on an Atomic Level
دانلود کتاب رسوب بخار شیمیایی: فرآیندهای رشد در سطح اتمی
مشخصات کتاب
Chemical Vapour Deposition: Growth Processes on an Atomic Level
ویرایش:
نویسندگان: Larsson K.
سری:
ISBN (شابک) : 9780750331050
ناشر: IOP Publishing
سال نشر: 2022
تعداد صفحات: 414
[415]
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 16 Mb
قیمت کتاب (تومان) : 49,000
در صورت تبدیل فایل کتاب Chemical Vapour Deposition: Growth Processes on an Atomic Level به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب رسوب بخار شیمیایی: فرآیندهای رشد در سطح اتمی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب رسوب بخار شیمیایی: فرآیندهای رشد در سطح اتمی
رسوب شیمیایی بخار (CVD) یک روش رسوب در خلاء است که برای تولید مواد جامد با کیفیت بالا، با کارایی بالا استفاده می شود. این اولین کتابی است که فرآیندهای رشد CVD را در سطح اتمی با استفاده از ترکیبی از ابزارهای نظری و تجربی، از جمله محاسبات تئوری تابعی چگالی (DFT) پوشش می‌دهد. با نشان دادن روش‌شناسی پشت مدل‌سازی و شبیه‌سازی فرآیندهای رشد CVD، این متن راهنمایی و توصیه‌های عملی در مورد چگونگی کسب نتایج نظری موفق ارائه می‌دهد. مثال‌های کار شده، مطالعات موردی، خلاصه‌های انتهای فصل و انیمیشن‌های فرآیندهای سطح اتمی برای کمک به یادگیری گنجانده شده‌اند. پس از خواندن این متن، محققان و دانشجویان دانش مورد نیاز خود را برای ایجاد فرآیندهای رشد مورد نظر برای رسوب مواد با خواص خاص خواهند داشت. ویژگی های کلیدی: فرآیندهای رشد CVD را در سطح اتمی با استفاده از ترکیبی از ابزارهای نظری و تجربی پوشش می‌دهد. دانش مورد نیاز برای ایجاد فرآیندهای رشد مطلوب برای رسوب مواد با خواص مواد خاص را فراهم می کند. اصول اصلی CVD و فرآیندهای رشد رایج ترین انواع مواد را پوشش می دهد. خواننده را قادر می‌سازد تا تنظیمات آزمایشی جدید طراحی کند، مواد جدید با ویژگی‌های خاص توسعه دهد، نتایج تجربی را تفسیر کند، و ابزارهای نظری را توسعه دهد. شامل نمونه های کار شده، مطالعات موردی، خلاصه های انتهای فصل و انیمیشن های فرآیندهای سطح اتمی است.
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
Chemical vapour deposition (CVD) is a vacuum deposition method used to produce high-quality, high-performance, solid materials. This is the first book to cover CVD growth processes at the atomic level using a combination of theoretical and experimental tools, including density functional theory (DFT) calculations. By demonstrating the methodology behind the modelling and simulation of CVD growth processes, the text provides guidance and practical advice on how to acquire successful theoretical results. Worked examples, case studies, end-of-chapter summaries and animations of atomic-level surface processes are included to aid learning. After reading this text, researchers and students will have the knowledge they need to tailor-make desired growth processes for the deposition of materials with specific properties. Key Features: Covers CVD growth processes at the atomic level using a combination of theoretical and experimental tools. Provides the knowledge required to tailor-make desired growth processes for the deposition of materials with specific materials properties. Covers the main principles of CVD and the growth processes of the most common types of materials. Enables the reader to design new experimental setups, develop new materials with specific properties, interpret experimental results, and develop theoretical tools. Includes worked examples, case studies, end-of-chapter summaries and animations of atomic-level surface processes.
نظرات کاربران
کتاب های تصادفی
دانلود کتاب WALCOM: Algorithms and Computation: 9th International Workshop, WALCOM 2015, Dhaka, Bangladesh, February 26-28, 2015. Proceedings
