ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Chemical Vapor Deposition for Microelectronics: Principles, Technology and Applications (Materials Science and Process Technology)

دانلود کتاب رسوب بخار شیمیایی برای میکروالکترونیک: اصول، فناوری و کاربردها (علوم مواد و فناوری فرآیند)

Chemical Vapor Deposition for Microelectronics: Principles, Technology and Applications (Materials Science and Process Technology)

مشخصات کتاب

Chemical Vapor Deposition for Microelectronics: Principles, Technology and Applications (Materials Science and Process Technology)

دسته بندی: علوم (عمومی)
ویرایش: 1st 
نویسندگان:   
سری:  
ISBN (شابک) : 0815511361, 9780815516392 
ناشر:  
سال نشر: 1989 
تعداد صفحات: 229 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 11 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 38,000



کلمات کلیدی مربوط به کتاب رسوب بخار شیمیایی برای میکروالکترونیک: اصول، فناوری و کاربردها (علوم مواد و فناوری فرآیند): مواد میان رشته ای



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 13


در صورت تبدیل فایل کتاب Chemical Vapor Deposition for Microelectronics: Principles, Technology and Applications (Materials Science and Process Technology) به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب رسوب بخار شیمیایی برای میکروالکترونیک: اصول، فناوری و کاربردها (علوم مواد و فناوری فرآیند) نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب رسوب بخار شیمیایی برای میکروالکترونیک: اصول، فناوری و کاربردها (علوم مواد و فناوری فرآیند)

یک مطالعه گسترده و جامع از رسوب بخار شیمیایی (CVD) ارائه می دهد. درک CVD مستلزم دانش مکانیک سیالات، فیزیک پلاسما، ترمودینامیک شیمیایی و سینتیک و همچنین واکنش های شیمیایی همگن و ناهمگن است. این متن این جنبه‌های CVD را به صورت یکپارچه ارائه می‌کند، و همچنین فیلم‌ها را برای استفاده در فناوری مدارهای مجتمع بررسی می‌کند.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Presents an extensive, comprehensive study of chemical vapor deposition (CVD). Understanding CVD requires knowledge of fluid mechanics, plasma physics, chemical thermodynamics, and kinetics as well as homogenous and heterogeneous chemical reactions. This text presents these aspects of CVD in an integrated fashion, and also reviews films for use in integrated circuit technology.



فهرست مطالب

MATERIALS SCIENCE AND PROCESS TECHNOLOGY SERIES......Page 3
CHEMICAL VAPOR DEPOSITIONFOR MICROELECTRONICS......Page 4
Preface......Page 6
Contents......Page 10
1 Fundamentals of Thermal CVD......Page 14
2 Fundamentals of Plasma-Assisted CVD......Page 53
3 Thermal CVD of Dielectrics and Semiconductors......Page 79
4 Thermal CVD of Metallic Conductors......Page 105
5 Plasma-Enhanced CVD......Page 132
6 Production CVD Reactor Systems......Page 163
7 Film Evaluation Techniques......Page 188
Index......Page 226




نظرات کاربران

تمامی حقوق معنوی و مادی وبسایت متعلق به اینترنشنال لایبرری می باشد
نماد اعتماد الکترونیکی