Atomic Layer Processing: Semiconductor Dry Etching Technology

در مورد موضوعات اساسی و پیشرفته در حکاکی با این راهنمای عملی بیاموزید

پردازش لایه اتمی: فناوری حکاکی خشک نیمه هادی به صورت عملی ارائه می دهد، منبع تک مرحله ای برای درک فناوری های اچینگ و کاربردهای آن ها. این دانشمند، مجری و نویسنده برجسته اطلاعات عمیقی را در مورد فناوری های مختلف اچینگ مورد استفاده در صنعت نیمه هادی ها، از جمله حکاکی حرارتی، لایه ایزوتروپیک اتمی، رادیکال، به کمک یون، و حکاکی یون واکنشی به خوانندگان ارائه می دهد.

این کتاب با تاریخچه مختصری از فناوری اچینگ و نقشی که در انقلاب فناوری اطلاعات ایفا کرده است، همراه با مجموعه‌ای از اصطلاحات رایج در صنعت آغاز می‌شود. سپس به بحث در مورد انواع تکنیک‌های مختلف اچ می‌پردازد، قبل از اینکه با بحث‌هایی در مورد اصول طراحی راکتور اچینگ و موضوعات جدید در این زمینه مانند نقش هوش مصنوعی در فناوری پایان یابد.

پردازش لایه اتمی شامل طیف گسترده‌ای از موضوعات دیگر نیز می‌شود، که همگی به هدف نویسنده کمک می‌کنند تا درک سطح اتمی از فناوری حکاکی خشک را برای خواننده کافی برای ایجاد راه‌حل‌های خاص برای موجود و کافی فراهم کند. فن آوری های نیمه هادی در حال ظهور خوانندگان از موارد زیر بهره مند خواهند شد:

• مباحث کاملی در مورد اصول چگونگی حذف اتم ها از سطوح مختلف
• بررسی فناوری های نوظهور اچ، از جمله لیزر و اچ به کمک پرتو الکترونی
• بررسی کنترل فرآیند در فناوری اچینگ و نقش هوش مصنوعی
• تحلیل طیف گسترده ای از روش های اچ، از جمله اچ حرارتی یا بخار، اچینگ لایه اتمی همسانگرد، رادیکال حکاکی، حکاکی لایه اتمی جهت دار، و موارد دیگر

مناسب برای دانشمندان مواد، فیزیکدانان نیمه هادی و شیمیدانان سطح، پردازش لایه اتمی نیز جایگاهی را در کتابخانه ها به دست خواهد آورد. از دانشمندان مهندسی در صنعت و دانشگاه، و همچنین هر کسی که با ساخت فن آوری نیمه هادی ها مرتبط است. مشارکت نزدیک نویسنده با تحقیقات شرکتی

Learn about fundamental and advanced topics in etching with this practical guide

Atomic Layer Processing: Semiconductor Dry Etching Technology delivers a hands-on, one-stop resource for understanding etching technologies and their applications. The distinguished scientist, executive, and author offers readers in-depth information on the various etching technologies used in the semiconductor industry, including thermal, isotropic atomic layer, radical, ion-assisted, and reactive ion etching.

The book begins with a brief history of etching technology and the role it has played in the information technology revolution, along with a collection of commonly used terminology in the industry. It then moves on to discuss a variety of different etching techniques, before concluding with discussions of the fundamentals of etching reactor design and newly emerging topics in the field such as the role played by artificial intelligence in the technology.

Atomic Layer Processing includes a wide variety of other topics as well, all of which contribute to the author's goal of providing the reader with an atomic-level understanding of dry etching technology sufficient to develop specific solutions for existing and emerging semiconductor technologies. Readers will benefit from:

• A complete discussion of the fundamentals of how to remove atoms from various surfaces
• An examination of emerging etching technologies, including laser and electron beam assisted etching
• A treatment of process control in etching technology and the role played by artificial intelligence
• Analyses of a wide variety of etching methods, including thermal or vapor etching, isotropic atomic layer etching, radical etching, directional atomic layer etching, and more

Perfect for materials scientists, semiconductor physicists, and surface chemists, Atomic Layer Processing will also earn a place in the libraries of engineering scientists in industry and academia, as well as anyone involved with the manufacture of semiconductor technology. The author's close involvement with corporate research & development and academic research allows the book to offer a uniquely multifaceted approach to the subject.