دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Atomic layer deposition in energy conversion applications
دانلود کتاب رسوب لایه اتمی در کاربردهای تبدیل انرژی
مشخصات کتاب
Atomic layer deposition in energy conversion applications
ویرایش: 1
نویسندگان: Julien Bachmann
سری:
ISBN (شابک) : 9783527694815, 352769482X
ناشر: Wiley VCH
سال نشر: 2017
تعداد صفحات: 295
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 8 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 42,000
کلمات کلیدی مربوط به کتاب رسوب لایه اتمی در کاربردهای تبدیل انرژی: رسوب لایه اتمی.، فناوری و مهندسی / مکانیک
در صورت تبدیل فایل کتاب Atomic layer deposition in energy conversion applications به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب رسوب لایه اتمی در کاربردهای تبدیل انرژی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب رسوب لایه اتمی در کاربردهای تبدیل انرژی
این کتاب با ترکیب این دو موضوع برای اولین بار، با مقدمه ای بر چالش های اخیر در دستگاه های تبدیل انرژی از منظر آماده سازی مواد و چگونگی غلبه بر آنها با استفاده از رسوب لایه اتمی (ALD) آغاز می شود. با پل زدن این موضوعات، به متخصصان ALD کمک می کند تا الزامات حوزه تبدیل انرژی را درک کنند و محققان در زمینه تبدیل انرژی با فرصت های ارائه شده توسط ALD آشنا شوند. این مطالعه با تمرکز اصلی بر کاربردهای ALD برای فتوولتائیک، ذخیره انرژی الکتروشیمیایی و دستگاه‌های عکس و الکتروشیمیایی، برای دانشمندان مواد، شیمی‌دانان سطح، الکتروشیمی‌دانان، الکتروتکنسین‌ها، فیزیکدانان و کسانی که در صنعت نیمه‌رساناها کار می‌کنند، مهم است.
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
Combining the two topics for the first time, this book begins with an introduction to the recent challenges in energy conversion devices from a materials preparation perspective and how they can be overcome by using atomic layer deposition (ALD). By bridging these subjects it helps ALD specialists to understand the requirements within the energy conversion field, and researchers in energy conversion to become acquainted with the opportunities offered by ALD. With its main focus on applications of ALD for photovoltaics, electrochemical energy storage, and photo- and electrochemical devices, this is important reading for materials scientists, surface chemists, electrochemists, electrotechnicians, physicists, and those working in the semiconductor industry
فهرست مطالب
Content: Introduction to Atomic Layer Deposition. Basics of Atomic Layer Deposition: Growth Characteristics and Conformality / Jolien Dendooven, Christophe Detavernier --
Atomic Layer Deposition in Photovoltaic Devices. Atomic Layer Deposition for High-Efficiency Crystalline Silicon Solar Cells / Bart Macco, Bas W H Loo, Wilhelmus M M Kessels --
ALD for Light Absorption / Alex Martinson --
Atomic Layer Deposition for Surface and Interface Engineering in Nanostructured Photovoltaic Devices / Carlos Guerra-Nuñez, Hyung Gyu Park, Ivo Utke --
ALD toward Electrochemical Energy Storage. Atomic Layer Deposition of Electrocatalysts for Use in Fuel Cells and Electrolyzers / Lifeng Liu --
Atomic Layer Deposition for Thin-Film Lithium-Ion Batteries / Ola Nilsen, Knut B Gandrud, Ruud Amund, Fjellvåg Helmer --
ALD-Processed Oxides for High-Temperature Fuel Cells / Michel Cassir, Arturo Meléndez-Ceballos, Marie-Hélène Chavanne, Dorra Dallel, Armelle Ringuedé --
ALD in Photoelectrochemical and Thermoelectric Energy Conversion.ALD for Photoelectrochemical Water Splitting / Lionel Santinacci --
Atomic Layer Deposition of Thermoelectric Materials / Maarit Karppinen, Antti J Karttunen.
